Photolithography（简称PHOTO，光刻），是半导体Wafer fab中最为核心技术的生产工序段。 Reticle，也称为photo mask（光罩），则是PHOTO工序必不可缺少的关键工具。Reticle的自身完好性，对wafer线路光刻的精准性起着决定性的作用。

静电放电(ESD: Electrostatic Discharge)，应该是造成所有电子元器件或集成电路系统造成过度电应力(EOS: Electrical Over Stress)破坏的主要元凶。 因为静电通常瞬间电压非常高(>几千伏)，所以这种损伤是毁灭性和永久性的，会造成电路直接烧毁。 所以预防静电损伤是所有IC设计和制造的头号难题

静电防护行业大事件！2018是美国ESD协会Certified Program Manager（简称CPM）在中国的推广期，美国ESD协会与苏州天华超净深度合作，授权天华超净开设允许中文答题的CPM考点，且举行俩期CPM课程相关的培训。学习完10门ESD课程，且通过考试，颁发CPM证书。1员工获取CPM证书对企业意味着什么CPM证书是ESD行业公认的最高级别证书。要取得CPM证书，需要学习ESDA

洁净室系统详解

静电放电抗扰度测试范围: 本标准规定电气和电子设备遭受直接来自操作者和对邻近物体的静电放电的抗扰度要求和试验方法,还规定了不同环境和安装条件下试验等级的范围和试验程序.